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CGHV96100F2

Name: MACOM CGHV96100F2
Brand: MACOM
SKU: 941-CGHV96100F2
Price: 1218.13 EUR
Availability: OutOfStock

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N. Mouser:

941-CGHV96100F2

N. produttore:

CGHV96100F2

Produttore:

MACOM

Descrizione:

GaN FETs GaN HEMT 7.9-9.6GHz, 100 Watt

Scheda dati:

CGHV96100F2 Scheda dati (PDF)

Modello ECAD:

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Attributo del prodotto	Valore dell'attributo	Seleziona attributo
Produttore:	MACOM
Categoria prodotto:	GaN FETs
Limitazioni per la spedizione:	Potrebbe essere necessaria della documentazione aggiuntiva per esportare questo prodotto dagli Stati Uniti.
RoHS::
Stile di montaggio:	Screw Mount
Package/involucro:	440210
Polarità transistor:	N-Channel
Vds - Tensione di rottura drain-source:	100 V
Id - corrente di drain continua:	12 A
Vgs th - Tensione di soglia gate-source:	- 3 V
Temperatura di lavoro minima:	- 40 C
Temperatura di lavoro massima:	+ 150 C
Marchio:	MACOM
Configurazione:	Single
Kit di sviluppo:	CGHV96100F2-TB
Guadagno:	12.4 dB
Frequenza di lavoro massima:	9.6 GHz
Frequenza di lavoro minima:	7.9 GHz
Potenza di uscita:	131 W
Confezione:	Tray
Prodotto:	GaN HEMTs
Tipo di prodotto:	GaN FETs
Quantità colli di fabbrica:	10
Sottocategoria:	Transistors
Tecnologia:	GaN
Tipo di transistor:	GaN HEMT
Vgs - Tensione di rottura gate-source:	- 10 V to 2 V
Peso unità:	65,235 g

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Scheda dati

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PCN

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TARIC:: 8541290000
CAHTS:: 8541290000
USHTS:: 8541290055
JPHTS:: 854129000
KRHTS:: 8541299000
MXHTS:: 8541299900
ECCN:: 3A001.b.3.b.2

CGHV96100F2 GaN HEMT

MACOM CGHV96100F2 Gallium Nitride (GaN) High Electron Mobility Transistor (HEMT) on silicon carbide (SiC) substrate is an internally matched (IM) FET that offers excellent power-added efficiency compared to other technologies. GaN provides superior properties to silicon or gallium arsenide (GaAs), including higher breakdown voltage, saturated electron drift velocity, and thermal conductivity. These CGHV96100F2 GaN HEMTs also offer greater power density and wider bandwidths than GaAs transistors. This MACOM IM FET is available in a metal/ceramic flanged package for optimal electrical and thermal performance.

HEMT GaN

Gli HEMT (transistor ad alta mobilità elettronica) al GaN (nitruro di gallio) di Cree offrono maggiore densità di potenza e maggiori ampiezze di banda rispetto ai transistor a Si e GaAs. Il GaN presenta proprietà superiori rispetto al silicio o all'arsenuro di gallio, inclusa una maggiore tensione di breakdown, elevata velocità di deriva degli elettroni saturati e una maggiore conduttività termica.
Maggiori informazioni

X-Band GaN HEMTs & MMICs

MACOM X-Band Gallium Nitride (GaN) High Electron Mobility Transistors (HEMTs) and Monolithic Microwave Integrated Circuits (MMICs) come with various solution platforms. That includes MMICs, internally matched GaN on SiC transistors (IM-FETs), and transistors. These multi-stage MMICs offer a variety of power levels, high gain, and high efficiency, while IM-FETs feature 50Ω building blocks in support of higher power systems. The transistors offer highly accurate modeling support that provides maximum flexibility to optimize amplifier design. The GaN has superior properties compared to silicon or gallium arsenide (GaAs), including higher breakdown voltage, higher saturated electron drift velocity, and higher thermal conductivity.